公开专利申请的开放创新效果：对喷墨专利的分析

　　企业申请专利的目的，并不只是为了获得发明权利。专利申请还包括了大量为了防止其他竞争对手企业获取技术权利的防卫申请。虽然防卫申请是专利审查率下降的一个原因，但是由于日本国内所有的专利申请在申请后的18个月后才公开，所以即使是为了防止竞争对手企业等取得专利，对没有直接竞争关系的第三者来说也可能是有益的技术信息。而且，这样的外部效果随着开放创新的发展，有可能波及到各个不同领域。本稿以“喷墨记录方法及其记录媒体”专利申请数据为基础，发现包括没有被要求审查的专利在内的喷墨技术专利申请，在不同领域的技术专利申请中被大量引用。进而本稿对可能影响企业申请专利的2个政策变化，即降低进步性基准和缩短要求审查期限的效果进行了调查。结果发现，前者对申请整体起到增加的效果，后者对未要求审查的申请及自己引用的申请起到减少效果，并且后者比前者的效果更为明显。